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更新时间：2018-06-02 
浏览次数：706气氛炉结构解析特点
箱式气氛炉又叫气氛炉,高温炉，管式炉。是一种先进实验设备,适用于金属，纳米，单晶硅，多晶硅，电池等的扩散焊接以及真空气体保护下，气氛热处理的加热设备钼丝炉，箱式气氛炉，真空管式炉用于材料或化学实验室，在真空或气氛状态下烧结各种新材料样品。
箱式气氛炉的结构分为以下几个部分：
炉膛
炉膛采用莫来石聚轻砖砌筑，炉膛内上下用碳化硅棚板，炉内温度是加热元件在加热过程中经过碳化硅棚板传导（暗火加热），温度更均匀。炉壳密封。为提高密封 垫的使用寿命在炉门口设有循环水冷套以降低密封处的温度。进气设炉膛底部，经加热腔预热后分多处进入炉内，排气经炉顶后部排出。保证炉内气氛均匀，减小炉 内温差。气路上装有气体流量计，用于正常使用控制气氛流量。
电气
电气部分采用与炉体一体化结构，整个电气元件安装在炉体底部的一侧，结构紧凑、占用空间小。温控安装在炉体侧面板上，观察直观，调节方便，温控仪具有 PID调节功能，可自动跟踪设定PID值，可任意设定测量分度密码，同时具备补偿功能，可使炉膛温度与显示值一致，具 有软启动、软关断、可控硅移相调压控制，0~98%输出可调节，面板上各种仪表开关等有相应的中文标牌。
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